的结构性失衡问题。 针对上述问题,研究团队建立了以液态金/钨双金属薄膜为衬底的化学气相沉积方法,实现了晶圆级、掺杂可调的单层氮化钨硅薄膜的可控生长。新的制备方法让二维材料的单晶区域尺寸达到了亚毫米级别,生长速率较已有文献报道值高出约1000倍。在晶体管性能方面,单层氮化钨硅不仅空穴迁移率高、开态电流密度大,强度高、散热好,化学性质也很稳定,综合性能在同类二维材料中表现突出。 该研究结果表明,单
品日益增长的需求。
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发布时间:06:47:07